随着石墨烯新技术、新成果的不断涌现，石墨烯研究有了巨大发展，但是仍然存在一些挑战性难题。基于高质量大面积石墨烯的实用化信息器件方面仍然存在诸多问题。石墨烯具有独特的物理和化学性质，具备优良的力学、热学、光学和电学特性。这样的“黑金”材料应用在信息器件与电路领域是前景广阔的。

信息科学作为目前发展较为活跃的研究阵地之一，若将石墨烯材料运用其中，会发生怎样的改变？自2014年起，有专门的研究团队针对石墨烯信息器件的一些关键基础问题、开展新概念、新方法和新技术的研究，并在重大科学问题上取得一系列进展。

CVD法制备石墨烯，经过工艺优化，可实现大面积石墨烯单晶生长。在实际应用过程中，金属表面形成的石墨烯一般需要转移至介电层上，才可进行下一步的器件加工。复杂的转移过程不可避免会对石墨烯造成破损、褶皱等问题。为了解决这一难题，研究者进行在介电衬底表面直接生长石墨烯的实验。若这项实验成功，将会极大促进石墨烯的广泛应用。事实上，由于介电层表面能量较低、对碳源小分子的裂解以及石墨烯形成所产生的催化作用十分微弱，因此在介电衬底上直接生长石墨烯是一个研究难点。

为了在介电衬底生长高质量石墨烯并应用在信息器件上，研究人员发明了一种双层掩模工艺，解决了绝缘的介电衬底上利用电子束曝光制备石墨烯纳米结构的难题。石墨烯实现在实用化信息器件领域的应用，对于人类是一件非常有意义的事情。随着石墨烯新技术的不断涌现，在各领域会有长足发展。