超薄AAO模板,可以移植到任何基底表面,作为掩膜用于刻蚀形成纳米孔阵列,或沉积掩膜形成纳米点阵列,实验室显微照片;纳米压印等。基底选择:目前已经在Si,SiO2/Si,ITO,glass,Cu, HOPG等基底上实现。基底一般由客户准备和处理(面积S≥1cm2,客户提供衬底)。
超薄AAO模板产品规格:
规格 | 孔径(nm) | 孔间距(nm) | 孔深(nm) |
AAO-FS-01 | 30 | 65 | 200 |
AAO-FS-02 | 30 | 65 | 400 |
AAO-FS-11 | 50 | 100 | 200 |
AAO-FS-12 | 50 | 100 | 400 |
AAO-FS-21 | 70 | 100 | 200 |
AAO-FS-22 | 70 | 100 | 400 |
AAO-FS-41 | 300 | 450 | 300 |
AAO-FS-42 | 400 | 450 | 300 |
定制说明:
我们向广大客户提供过孔径200-400nm,厚度200-500nm,周期400-450nm的超薄AAO膜,但由于该产品工艺更加复杂困难,并且转移的稳定性和重现性有待提升。如果有需要请联系我门。近期也将推出周期200-250nm,孔径100-200的超薄AAO膜,详情请联系我们。