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铜基底石墨烯转移到氧化硅片上

铜基底石墨烯转移到氧化硅片上

  • 分类:行业动态
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  • 来源:
  • 发布时间:2022-09-27
  • 访问量:782

【概要描述】铜基底石墨烯 (WJCS/F)是一款以优质铜箔为基底,通过化学气相沉积工艺,令石墨烯在铜箔表面生长,制备出的单层、双层和少层(少于10层)石墨烯薄膜。而在实验中有时可能需要用到石墨烯在氧化硅片上的实验测试,因此,就需要把铜基底石墨烯转移到氧化硅片上去。

铜基底石墨烯转移到氧化硅片上

【概要描述】铜基底石墨烯 (WJCS/F)是一款以优质铜箔为基底,通过化学气相沉积工艺,令石墨烯在铜箔表面生长,制备出的单层、双层和少层(少于10层)石墨烯薄膜。而在实验中有时可能需要用到石墨烯在氧化硅片上的实验测试,因此,就需要把铜基底石墨烯转移到氧化硅片上去。

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铜基底石墨烯 (WJCS/F)是一款以优质铜箔为基底,通过化学气相沉积工艺,令石墨烯在铜箔表面生长,制备出的单层、双层和少层(少于10层)石墨烯薄膜。而在实验中有时可能需要用到石墨烯在氧化硅片上的实验测试,因此,就需要把铜基底石墨烯转移到氧化硅片上去。那么,铜基底石墨烯是如何转移到氧化硅片上去的呢!下面我们就来一起了解一下。

铜基底石墨烯转移到氧化硅片上的过程:

1、取出铜箔,裁切,取样;

2、在样品的表面旋涂上一层PMMA后,室温条件下充分干燥;

3、裁剪已旋涂上PMMA的铜箔,取中间部分,置于刻蚀液中进行刻蚀;

4、刻蚀过程中,要多次用去离子水对铜箔的背面进行冲洗;

5、待铜箔被完全刻蚀后,用玻璃片将石墨烯薄膜转移到水中,并对其进行清洗;

6、清洗完以后,将石墨烯薄膜转移到氧化硅片上,干燥;

7、待试样冷却到室温下后,将其置于丙酮溶液中以去除PMMA;

8、取出试样用乙醇及去离子水对薄膜表面进行冲洗,晾干。

温馨提示:石墨烯转移到任何基底(不包括悬空自助转移的基底)上后,干燥之前都是可以再释放下来的,但充分干燥以后,石墨烯与基底之间充分粘合,就不能再释放下来。

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