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CVD石墨烯的应用领域、制备方法和产品特性是什么?

CVD石墨烯的应用领域、制备方法和产品特性是什么?

  • 分类:行业动态
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  • 来源:
  • 发布时间:2022-07-11
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【概要描述】CVD石墨烯是一种由蜂窝单层碳原子组成的二维结构材料。其独特的二维结构和优异的结晶性能使其在光电子器件、传感器和太阳能领域具有重要意义。

CVD石墨烯的应用领域、制备方法和产品特性是什么?

【概要描述】CVD石墨烯是一种由蜂窝单层碳原子组成的二维结构材料。其独特的二维结构和优异的结晶性能使其在光电子器件、传感器和太阳能领域具有重要意义。

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  CVD石墨烯是一种由蜂窝单层碳原子组成的二维结构材料。其独特的二维结构和优异的结晶性能使其在光电子器件、传感器和太阳能领域具有重要意义。目前,石墨烯的制备方法主要有机械剥离法、氧化还原法、晶体外延生长法、化学气相沉积法、有机合成法和碳纳米管剥离法。其中,化学气相沉积法适合工业化批量生产。该方法是指通过反应物质在气体条件下的化学反应和碳原子沉积在加热的衬底表面来制备固体材料的工艺技术,通过CVD可以制备高质量和大面积的石墨烯薄膜。

  CVD石墨烯薄膜的生产实际上是通过一系列处理,特别是高温处理,在金属基底上生长气体,直到气体在金属基底上完全生长。石墨烯本身是透明的。对于金属基底,是否有石墨烯附着在其上,颜色只有一点差异,这是普通人很难看到的。然而,这种方法制备的石墨烯的尺寸基本上取决于金属衬底的尺寸。下面介绍一下CVD石墨烯的应用领域、制备方法和产品特性;

  一、 应用领域:

  CVD石墨烯薄膜产品可以取代现有的氧化铟锡(ITO),在新型信息终端、太阳能电池、电子纸、智能玻璃、有机LED等领域,特别是在柔性电子器件中用作透明电极。

  CVD石墨烯薄膜具有特殊的物理性质、高迁移率和可调的带隙。它在高速晶体管和光电子器件领域具有良好的应用前景。

  二、 制备方法

  1、直接剥离法生产石墨烯成本低,工艺复杂,不适合实际工业需求。随着化学气相沉积技术的出现,石墨烯的工业化生产已成为可能。

  2、化学气相沉积(CVD)出现于20世纪60年代。它主要用于制备高纯度和高性能的固体薄膜。石墨烯化学气相沉积的原理是在高温和高真空环境下,将含碳的气态物质以氢气作为还原气体引入熔炉中生成石墨烯,所有石墨烯都沉积在基板表面。石墨烯是通过化学气相沉积法制备的,如管式炉、微波等离子体CVD设备、射频化学气相沉积等。

  三、 CVD石墨烯导热和散热涂层的特性

  石墨烯水分散技术:将高质量的石墨烯分散在水性树脂中,以制备水性热辐射涂层。

  高红外热发射率:红外热发射率高达0.95.

  换热效率:热辐射效果提高10倍以上,传热效率提高70%-80%。

  涂层机械性能良好:附着力0级,耐-20℃~150℃冷热冲击。

  耐温性好:极大电阻300℃,长期使用不会脱落、变黄、开裂。

  各种施工方法:适用于喷涂工艺,也可浸涂、刮涂、刷涂、辊涂。

  丰富的可选基板:可以构建普通金属、陶瓷和塑料基板。


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