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微晶科技提供高纯5纳米石墨烯-厚度可定制（1nm-8nm）
- 分类：行业动态
- 作者：
- 来源：
- 发布时间：2024-10-21
- 访问量：771
【概要描述】CVD技术是一种在较高温度下通过化学反应使含碳化合物分解，进而在基底上生长出石墨烯薄膜的方法。微晶科技通过精确控制CVD反应条件，包括气体流量、压力、温度以及生长时间，确保了石墨烯薄膜的高质量和均匀性。
微晶科技提供高纯5纳米石墨烯-厚度可定制（1nm-8nm）
【概要描述】CVD技术是一种在较高温度下通过化学反应使含碳化合物分解，进而在基底上生长出石墨烯薄膜的方法。微晶科技通过精确控制CVD反应条件，包括气体流量、压力、温度以及生长时间，确保了石墨烯薄膜的高质量和均匀性。
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CVD技术是一种在较高温度下通过化学反应使含碳化合物分解，进而在基底上生长出石墨烯薄膜的方法。微晶科技通过精确控制CVD反应条件，包括气体流量、压力、温度以及生长时间，确保了石墨烯薄膜的高质量和均匀性。该过程通常涉及在铜箔等金属基底上催化生长石墨烯，然后通过一系列精细的转移步骤，将石墨烯薄膜无损地转移到目标基底上，如聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）等，以保持其优异的物理和化学性质。
所制备的石墨烯薄膜具有以下显著特点：
1、高热导率：石墨烯的高热导率有助于快速分散热量，保护电子元件免受过热损害。
2、高电导性：石墨烯的高电导性使其在电子器件中具有潜在的应用价值。
3、高透明度：石墨烯薄膜的高透明度使其在透明导电膜等领域具有应用潜力。
4、柔韧性：石墨烯薄膜的柔韧性使其能够适应各种弯曲和折叠的应用需求。
微晶科技的CVD法制备石墨烯薄膜技术不仅在科研领域具有重要应用，同时也为石墨烯材料的商业化和产业化提供了强有力的技术支撑。
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