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微晶科技 SiO2/Si片基底石墨烯薄膜 高品质CVD石墨烯
- 分类：行业动态
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- 来源：
- 发布时间：2024-08-02
- 访问量：480
【概要描述】微晶科技采用化学气相沉积（CVD）技术实现石墨烯的可控制备。通过优化生长参数和后处理方法，成功获得了大面积、均匀且具有优异电学性能的石墨烯薄膜，为石墨烯在电子器件和光电子领域的应用奠定了基础。
微晶科技 SiO2/Si片基底石墨烯薄膜 高品质CVD石墨烯
【概要描述】微晶科技采用化学气相沉积（CVD）技术实现石墨烯的可控制备。通过优化生长参数和后处理方法，成功获得了大面积、均匀且具有优异电学性能的石墨烯薄膜，为石墨烯在电子器件和光电子领域的应用奠定了基础。
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石墨烯，一种由碳原子以sp2杂化轨道组成的二维材料，因其卓越的电学、热学和力学性能而备受关注。在众多制备方法中，化学气相沉积（CVD）技术因其能够生产大面积、高质量石墨烯薄膜而被广泛采用。微晶科技采用化学气相沉积（CVD）技术实现石墨烯的可控制备。通过优化生长参数和后处理方法，成功获得了大面积、均匀且具有优异电学性能的石墨烯薄膜，为石墨烯在电子器件和光电子领域的应用奠定了基础。
微晶科技提供高品质的SiO2/Si片基底CVD石墨烯薄膜在电学性能上表现出色，为进一步的应用研究和产业化提供了重要基础。
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