我公司是目前国内较早的一家石墨烯生产企业，产品已畅销海内外。本公司可提供不同基底的单层及少层（小于10层）石墨烯薄膜，完整性高，单层覆盖率高，导电性好，迁移率大可~6000cm²/vs。目前常见的基底有铜基底、硅基底、氧化硅片基底、PET基底、蓝宝石基底、镍泡沫、悬空自助转移、泡取式、石英基底等等。

那么，铜基底石墨烯如何转移到氧化硅片上的？下面我们就来详细了解一下！

（1）取出铜箔，裁切，取样；

（2）在样品的表面旋涂上一层PMMA后，室温条件下充分干燥；

（3）裁剪已旋涂上PMMA的铜箔，取中间部分，置于刻蚀液中进行刻蚀；

（4）刻蚀过程中，要多次用去离子水对铜箔的背面进行冲洗；

（5）待铜箔被完全刻蚀后，用玻璃片将石墨烯薄膜转移到水中，并对其进行清洗；

（6）清洗完以后，将石墨烯薄膜转移到氧化硅片上，干燥；

（7）待试样冷却到室温下后，将其置于丙酮溶液中以去除PMMA；

（8）取出试样用乙醇及去离子水对薄膜表面进行冲洗，晾干。

氧化硅上的石墨烯可以重新释放到去离子水吗？

石墨烯转移到任何基底（不包括悬空自助转移的基底）上后，干燥之前都是可以再释放下来的，但充分干燥以后，石墨烯与基底之间充分粘合，就不能再释放下来。